第2回SPring-8産業利用報告会
産業用専用ビームライン利用成果等報告

主 催：
（50音順）		 (財)高輝度光科学研究センター(JASRI)
産業用専用ビームライン建設利用共同体（SUNBEAM CONSORTIUM）
(財)ひょうご科学技術協会(HSTA)
共 催： SPring-8利用推進協議会
日 時： 平成17年9月5日（月) 　12:30〜19:00　　／　（懇親会 19:00〜21:00）
平成17年9月6日（火）　10:00〜17:30
会 場： 大型放射光施設 SPring-8　（兵庫県佐用郡三日月町光都1丁目1-1）
放射光普及棟 大講堂・中講堂 及び 萌光館


タイトル 発表者
口頭 電子部品グリーン調達用クロメート膜中6価クロムのXANES分析 野村 健二（富士通研究所）
超高品質SiC単結晶のトポグラフを用いた欠陥評価 山口 聡（豊田中央研究所）
Bi系超電導線材の焼結過程のin-situ評価 飯原 順次（住友電気工業）
CoPtCr-SiO2垂直磁気記録媒体高密度化のための放射光Ｘ線およびTEMによるナノ構造解析 久保木 孔之（富士電機アドバンストテクノロジー）
Ｘ線マイクロビームを用いた電線絶縁材料の微小部分析とイメージング 山崎 孝則（日立製作所）
電気化学キャパシタ電極材料のin-situＸＡＦＳ解析 田中 篤嗣（関西電力）
ポスター S1 円偏光Ｘ線生成とＸＭＣＤ測定法立上げ 平井 康晴（日立製作所）
S2 その場計測ガス供給排気設備の立ち上げ 広瀬 美治（豊田中央研究所）
S3 微小角入射X線散乱技術立上げと応用（5社共同実験） 竹村 モモ子（東芝）
S4 二次元XAFSによる価数分布評価（5社共同実験）　 山口 聡（豊田中央研究所）
S5 SDDによるβ-FeOOHさび中極微量TiのXAFS測定・評価 世木 隆（神戸製鋼所）
S6 in situ XRDによるSi添加鋼の２次スケール生成挙動の解析 稲葉 雅之（神戸製鋼所）
S7 CoOx膜のＸＡＦＳにおける分析深さの推定 高川 悌二（三洋電機）
S8 SiGe薄膜の結晶構造解析 後藤 隆（三洋電機）
S9 X線散乱法およびXAFS法による非晶質材料の構造解析 斎藤 吉広（住友電気工業）
S10 リチウムイオン二次電池オリビン系正極材料LixMnyFe1-yPO4のXAFS解析 工藤 喜弘（ソニー）
S11 電気化学キャパシタ電極材料のin-situＸＡＦＳ解析　 田中 篤嗣（関西電力）
S12 トポグラフィによる４H−SiCエピタキシャル膜中の結晶欠陥評価 鎌田 功穂（電力中央研究所）
S13 ＸＡＦＳによる希薄な溶液中セレンの酸化挙動の直接解析 秋保 広幸（電力中央研究所）
S14 X線反射率法によるHｆSiON膜の構造解析 山崎 英之（東芝）
S15 ゴムメタルの引張負荷下偏光XAFS解析 野中 敬正（豊田中央研究所）
S16 エアロゾルデポジション法による強誘電体膜の構造 中田 正文（日本電気）
S17 Ｘ線マイクロビームを用いた電線絶縁材料の微小部分析とイメージング 山崎 孝則（日立製作所）
S18 電子部品グリーン調達用クロメート膜中6価クロムのXANES分析 野村 健二（富士通研究所）
S19 CoPtCr-SiO2垂直磁気記録媒体高密度化のための放射光Ｘ線およびTEMによるナノ構造解析 久保木 孔之（富士電機アドバンストテクノロジー）
S20 7素子SDDのXAFSへの応用　−検出器間の比較− 尾崎 伸司（松下電器産業）
S21 X線反射率によるCVDシリコン酸化膜の改質状態解析 河瀬 和雅（三菱電機）
S22 吸収端近傍励起XRFによるHfSiOx超薄膜の評価 上原 康（三菱電機）

注記：　サンビームは，大型放射光施設「SPring-8」のビームライン”BL16XU”　と　“BL16B2”　を指します。

　　　　　産業用専用ビームライン建設利用共同体は，上記13社・1法人で構成されています。