受付日	JASRI No.	課題番号	会社名	筆頭者氏名	発表先	題目
131	05/07	3746	C01B16B2-3000-N	住友電工	飯原順次	企業研究会 CAMMフォーラム	SPring-8を利用しての研究成果
132	07/29	4956	C02A16B2-4010-N, C02B16B2-4017-N	三菱電機	上原　康	信学技報 SDM2003-71（2003-06）	HfSiOx薄膜のXAFSによる局所構造解析
133	08/06	5070	C01B16XU-3004-N	関西電力（株）／（株）原子力安全システム研究所	寺地　巧	J. Nucl. Sci. Technol., 40(2003) pp.509	Influence of Dissolved Hydrogen on Structure of Oxide Film on Alloy 600 Formed in Primary Water of Pressurized Water Reactors
134	10/02	5293	C03A16XU-3015-N	大阪大学／関西電力（株）	中野貴由	Boundary Vol.19, No.9 (2003)16-20	生体硬組織への結晶学的アプローチ
135	10/02	5294	C02A16B2-4008-N	関西電力（株）	出口博史	第６回ＸＡＦＳ討論会	セリア系固体電解質材料のXAFS解析
136	10/09	5148	C03A16XU-3009-N	富士電機	田沼良平	第６４回応用物理学会学術講演会	フレネルゾーンプレート拡大結像法による高空間分解能Ｘ線回折
137	10/21	5319	C03A16B2-4002-N	�鞄月ﾅ	竹村モモ子	第39回X線分析討論会 2003.09.16-淡路夢舞台国際会議場	ハフニウムシリケート薄膜のEXAFS解析
138	10/21	5337	C03A16XU-3003N	�鞄月ﾅ	山崎英之	日本分析化学会代52年会 2003.09.23-宮城教育大学	SPring-8利用Hfシリケート膜のX線反射率解析
139	12/02	5373	C01B16B2- 4018-N	三菱電機	河瀬和雅	信学技報 (Technical report of IEICE. SDM2003-166) vol.(2003) 29	酸素ラジカル処理したCVDシリコン酸化膜の高輝度放射光利用X線反射率測定
140	03/22	5709	C02B16XU-4008-N	富士通研	淡路　直樹	講演会名：SPring-8産業利用者交流会(開催日2003.5.12-都市名兵庫県)	「蛍光Ｘ線、Ｘ線反射、回折、散乱」
141	03/22	5710	C02A16XU-3009-N	富士通研	淡路　直樹	誌名：SPring-8 Research Frontiers (Vol.2001B/2002ANo.-2003年-P.92-93)	Performance of X-ray reflectometry for 1-nm thick gate oxide
142	03/22	5711	C02B16XU-4008-N	富士通研	淡路　直樹	"講演会名：応用物理学会関係連合講演会(開催日2003.9.1-都市名福岡) "	X線CTR散乱による極薄ゲート絶縁膜の界面評価技術
143	03/22	5712	C02B16XU-4008-N	富士通研	土井　修一	"講演会名：第3回サンビーム研究発表会(開催日2003.9.5-都市名兵庫) "	X線CTR散乱による極薄ゲート酸化膜界面の構造評価
144	03/22	5713	C02A16XU-3009-N	富士通研	淡路　直樹	"The 10th International Conference on Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis(開催日2003.9.5-都市名兵庫,淡路) "	TXRF of trace impurities on semiconductor wafers using 3rd generation synchrotron radiation
145	03/22	5714	C02A16XU-3009-N	富士通研	淡路　直樹	"The 10th International Conference on Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis(開催日2003.9.5-都市名兵庫,淡路) "	WD-GIXRF of multilayer thin films
146	03/22	5715	C02A16XU-3009-N	富士通研	淡路　直樹	"講演会名：平成15年度　第４回ナノテク支援ワークショップ(開催日2003.09.30-都市名兵庫SP-8) "	斜入射X線励起蛍光法によるナノ多層薄膜の深さ方向プロファイリング
147	03/22	5716	C02B16XU-4008-N	富士通研	淡路　直樹	誌名：電子情報通信学会誌	CMOSゲート界面の原子1層のひずみを世界で初めて測定
148	03/22	5717	C02B16XU-4008-N	富士通研	淡路　直樹	"講演会名：第２回名古屋表面科学シンポジウム(開催日2004.1.24-都市名名古屋市) "	表面・界面評価法の電子デバイスへの応用例
149	03/22	5718	C02A16XU-3009-N	富士通研	淡路　直樹	講演会名：放射光イノベーションセミナー (開催日2004.2.6-都市名神戸市)	極微量、極薄膜、極界面が見える放射光　−電子デバイス材料の分析
150	03/22	5719	C02A16XU-3009-N	富士通研	淡路　直樹	講演会名：SPring-8ワークショップ 「放射光によるLSI新材料評価技術」(開催日2004.2.13-都市名兵庫SPring-8)	Ｘ線反射、ＣＴＲ散乱によるゲート絶縁膜の膜・界面構造の評価
151	03/26	5729	C02A16XU-3000-N	富士電機	田沼良平	17th International Congress on X-ray Optics and Microanalysis	Submicron-Resolved X-ray Topography using Asymmetric-Reflection Magnifier
152	03/26	5705	C03A16XU-3000-N	富士電機	大沢通夫	第17回放射光学会年会	磁気ディスク（HD）用記録媒体の微小角入射X線回折
153	03/22	5720	C01A16XU-3021-N	豊田中研	斎藤卓	Science, vol.300 (2003) 377-532	Multifunctional Alloys Obtained via a Dislocation-Free Plastic Deformation Mechanism
154	03/22	5724	C01B16XU-3012-N	豊田中研	野中敬正	International Conference on X-ray Absorption Fine Structure (XAFS12)	XAFS Study on Cathode Materials for Li-ion Batteries using X-ray Microbeam
155	03/22	5721	C00B16B2-4013-N	豊田中研	野中敬正	放射光, vol.17(2004) 17-22	リチウムイオン電池正極材料のin situ XAFS解析
156	03/22	5690	C02B16B2-4010-N	豊田中研	堂前和彦	"4th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices "	An investigation of Rh on Alumina after Treatments in High-Temperature Oxidizing/Reducing Conditions
157	03/22	5725	C01A16B2-4020-N	豊田中研	長井康貴	International Conference on X-ray Absorption Fine Structure (XAFS12)	Study on the thermal degradation of CeO2-ZrO2 solid solution
158	03/22	5726	C01A16B2-4020-N	豊田中研	長井康貴	第92回触媒討論会	XAFSおよびXRDによるCeO2-ZrO2固溶体の熱劣化挙動の解析