受付日ウケツケビ 発表ハッピョウ形式ケイシキ JASRI No. 課題カダイ番号バンゴウ 会社名カイシャメイ 筆頭者ヒットウシャ氏名シメイ 発表ハッピョウ 発表ハッピョウサキ 題目ダイモク
                   
410 3/19 9 21175 2010A5351 関西電力(株) 渡辺恒典 2012/3/15 R&D News Kansai, Vol. 467, 16-17, 2012 メタンを利用する脱硝触媒の高性能化
409 2/22 1 21009 2010A5131
2010B5131
三菱ミツビシ電機デンキ 河瀬カワセ 和雅カズマサ 2012/2/1 J. Appl. Phys. 111 (2012) 034101. Densification of chemical vapor deposition silicon dioxide film using oxygen radical oxidation
408 11/16 7 20368 2006B5340, 2007A5340, 2008A5340 ソニー(カブ) 工藤クドウ 喜弘ヨシヒロ   『高性能蓄電池—設計基礎研究から開発・評価まで—』 スズ系およびシリコン系負極活物質のXAFS解析
407 11/16 6 20371 2008B5341 ソニー(カブ) 後藤ゴトウ 習志シュウジ   Materials Research Society Symposia Proceedings, 1127E(2009)T07-1 PtRu Nanoparticle Catalytic Activity Enhanced by the Ligand Effect
406 11/16 5 13036 2006B5340, 2007A5340, 2008A5340 ソニー(カブ) 井上イノウエ ヒロシ   Electrochemistry, 76(2008)358
新負極材料系リチウムイオン電池
405 11/15 11 20413 2010B1826, 2007B1923, 2007B5330, 2008A5331, 2009A1821 住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Yamada Hirotoshi 2011.03.29-03.31 電気化学会 XAFSによる多孔カーボン電極内における電解質イオンの局所構造解析
404 11/15 9 20412 C03B16B2-4003-N, C04A16B2-4030-N, C04B16B2-4030-N , C05A16B2-4030-N, 2005B0799, 2009A1916, 2009B1812, 2009A1825 住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Saito Yoshihiro 2010.12.01 New Glass Structure analysis of Er-doped SiO2 fiber using x-ray scattering, XAFS, and MD simulation
403 11/15 11 20411 2010B5330, 2010A5330, 2010A1707, 2009B1800, 2009B2050, 2009A5330, 2008B2008 住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Iihara Junji 2010.03.30-04.01 資源素材学会 廃超硬工具からのタングステンリサイクル技術開発(2)−硫化によるタングステンとモリブデンの分離技術の検討−
402 11/15 10 20410 C03B16B2-4003-N, C04A16B2-4030-N, C04B16B2-4030-N , C05A16B2-4030-N, 2005B0799, 2009A1916, 2009B1812, 2009A1825 住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Iihara Junji 2010.06.25 ニューガラスフォーラム 評価技術ヒョウカギジュツ研究会ケンキュウカイ 高輝度放射光を用いた光ファイバの構造解析
401 11/15 11 20409 C03B16B2-4003-N,  C04A16B2-4030-N,  C04B16B2-4030-N,  C05A16B2-4030-N, 2005B0799, 2009A1916, 2009B1812, 2009A1825 住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Iihara Junji 2010.08.27 SPring-8ガラス・セラミックス研究会(第1回) 光ファイバー材料のXAFS法による構造解析
400 11/15 11 20408 2010B5330, 2010A5330, 2010A1707, 2009B1800. 2009B2050, 2009A5330, 2008B2008 住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Iihara Junji 2010.09.13-09.15 資源素材学会 廃超硬工具からのタングステンリサイクル技術開発(4)
399 11/15 11 20407 C04B16XU-3000-N, |2009A1916,
|2006A5031, 2008A5031、2007A5030、2006A5031、2005B5030
住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Saito Yoshihiro 2010.03.01 第2回 SPring-8金属材料評価研究会  Practical use of DLC films and its structure analysis by X-ray scattering
398 11/15 11 20374 2010A5030, 2009A5030, 2008B5030, 2008B2017, 2008B2112,  2008B2133, 2007B1029, 2007B1824, 2007B5030, 2007A5031, 2006B5031, 2006A5030, 2006A5331, 2005B5031, 2005B0959, 2005A0373-NI-np-TU, C05A16XU-3031-N, C04B16XU-3031-N,  C04B16XU-3030-N 住友電気工業スミトモデンキコウギョウ Uemura Shigeaki 2010,11,5 第2回SPring-8合同コンファレンス、第10回サンビーム研究発表会 Study of Bi-based superconducting wire using X-ray diffraction measurements
397 11/15 11   2010A5391 日産ニッサン自動ジドウシャ 伊藤イトウ淳史アツシ 2010年11月4-5日 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) 高容量コウヨウリョウLi-ion電池デンチヨウ正極セイキョクのIn-situ技術ギジュツ適用テキヨウした局所キョクショ構造コウゾウ解析カイセキ
396 11/15 11 20390 2010A5350              2009A5350 デンチュウケン 野田ノダ 直希ナオキ 2010/11/4-5 ダイ2カイSPring-8合同ゴウドウコンファレンス      (ダイ10カイサンビーム研究ケンキュウ発表ハッピョウカイ ハイガスチュウガスジョウセレン測定ソクテイホウ規格キカクカンする検討ケントウ
395 11/11 11   2010A5420 パナソニック 橋昌男 2010/11/4 第10回サンビーム研究発表会 Si基板上汚染金属の化学状態分析
394 11/09 11 20142 2008A5100
2008B5100
2009A5100
 2009B5100
 2010A5100
カブ日立ヒタチ製作所セイサクショ 上田ウエダ和浩カズヒロ 2010.01.09 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム X線磁気顕微鏡によるネオジム磁石の磁気イメージング
393 11/09 11 20143 2008B5100
2009A5100
 2009B5100,
 2010A5100
カブ日立ヒタチ製作所セイサクショ 米山ヨネヤマ明男アキオ 2010.01.09 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム マイクロビーム走査型高速蛍光顕微鏡の開発
392 11/09 11 20343 2007B5090
2008A5100
2009A5100
2009B5100
カブ日立ヒタチ製作所セイサクショ 上田ウエダ和浩カズヒロ 2010.11.04-05 SPring-8産業利用サンギョウリヨウ報告会ホウコクカイ Xセン磁気顕微鏡ジキケンビ開発カイハツ
391 11/8 11 20337 2009A5040 ソニー 越谷コシタニ 直樹ナオキ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) ペンタセン薄膜のX線回折法による構造解析
390 11/4 11 20303 2008A5372, 2010A5370 豊田中央研究所カイシャ 山口ヤマグチサトシ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) コウエネルギーXセンモチいた残留ザンリュウ応力オウリョク解析カイセキ
389 11/4 11 20271 2009A5360, 2010A5360 東芝トウシバ オキ 充浩ミツヒロ 2010/9/22 ダイ46カイXセン分析ブンセキ討論トウロンカイ XAFSによる工業コウギョウ材料中ザイリョウチュウロックロムの定量テイリョウ分析ブンセキ
388 11/4 11 20272 2009A5360, 2010A5360 東芝トウシバ オキ 充浩ミツヒロ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) XAFSによる工業コウギョウ材料中ザイリョウチュウロックロムの定量テイリョウ分析ブンセキ
387 11/4 11 20273 2009A5360,2010A5360 東芝トウシバ 盛本モリモト さやか 2010/9/15 日本ニホン分析ブンセキ化学カガクカイダイ59ネンカイ アルカリ抽出−ジフェニルカルバジド吸光光度法における六価クロム抽出率の向上
386 11/2 11 20279 2008A1513
2009A1840
2009B1844
2009B5110
富士通フジツウケン 淡路アワジ直樹ナオキ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) 領域リョウイキ拡大カクダイフーリエ変換ヘンカンホログラフィーイメージングホウ開発カイハツ
385 11/1 6 19959 2009B5130
2010A5131
三菱ミツビシ電機デンキ 河瀬カワセ 和雅カズマサ 2011/1/21 ダイ16カイゲートスタック研究会ケンキュウカイ
 [2011.01.21-01.23]
Ar/O2ラジカル酸化改質されたCVD-SiO2膜のX線反射率による密度分布評価
384 11/1 11   2009B5130 三菱ミツビシ電機デンキ 河瀬カワセ 和雅カズマサ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) ラジカル改質されたCVD-SiO2 膜のX線反射率による密度評価
383 11/1 6 19957 2009B5130 三菱ミツビシ電機デンキ 河瀬カワセ 和雅カズマサ 2010/10/10 The Electrochemical Society 218the Meeting [2010.10.10-10.15] LasVegas, USA  Densification of CVD-SiO2 film using radical oxidation
382 11/1 11 19958 2009B5130 三菱ミツビシ電機デンキ 河瀬カワセ 和雅カズマサ 2010/9/14 2010秋季シュウキ応用オウヨウ物理ブツリ学会ガッカイ学術ガクジュツ講演コウエンカイ
 [2010.09.14-09.17] Nagasaki, Japan
CVD-SiO2 膜のAr/O2 ラジカル酸化処理による高密度化
381 11/1 5 14647 C03B3014,  05B 5131,
06A 5131, 07A 5131,
三菱ミツビシ電機デンキ 上原ウエハラ ヤスシ 2009年9月 表面技術 60(9),566 (2009) 放射光を用いた電子デバイス用金属化合物の状態分析
380 11/1 11   2008A5430 三菱ミツビシ電機デンキ 上原ウエハラ ヤスシ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) XANESによるドウ絶縁ゼツエン反応ハンノウ解析カイセキ
379 11/1 11 19398 2009A1840
2009B1844
2009B5110
2010A1744
2010A5110
富士通フジツウケン 野村ノムラ健二ケンジ  2010/08/19   International Conference on X-ray Microscopy (XRM)   X-ray Fourier Transform Holography with a Separate Illumination Mask
378 11/1 1 17212 2008A1513
2009A1840
2009B1844
2009B5110
富士通フジツウケン 淡路アワジ直樹ナオキ 2010/7/16 Applied Physics Express 3 (2010)085201 Large Area Imaging by Fourier Transform Holography Using Soft and Hard X-ray
377 11/1 1 18707 2009B5110
2009B1844
2009A1840
2008A1513
富士通フジツウケン 淡路アワジ直樹ナオキ 2010/9/29 Diamond Light Source Proceedings
v.1(2010)113
X-ray Fourier Transform Holography Using Separated Holography-mask
376 11/1 11 20248 2009B5110
2009B1844
2009A1840
2008A1514
富士通フジツウケン 淡路アワジ直樹ナオキ 2010/7/13 International Conference of Synchrotron Radiation in Material Science (SRMS2010) X-ray Fourier Transform Holography with a separated illumination mask for a coherent imaging of nanomaterials
375 11/1 11 20249 2010A1744
2009B5110
2009B1844
2009A1840
2008A1513
富士通フジツウケン 淡路アワジ直樹ナオキ 2011/1/9 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 視野走査型X線フーリエ変換ホログラフィーの開発と軟X線・硬X線イメージングへの適用
374 10/31 11 20334 2009B5080
2010A5081
日亜ニチア化学カガク サカキ 篤史アツシ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) 放射光ホウシャコウマイクロXセンによる蛍光体ケイコウタイフリー白色ハクショクLEDの評価ヒョウカ
373 10/31 11 20335 2009B5381
2010A5380
日亜ニチア化学カガク 吉田ヨシダ 泰弘ヤスヒロ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) in-situ XAFS/XRD測定ソクテイによるLi二次ニジ電池デンチ正極セイキョク材料ザイリョウ構造コウゾウ解析カイセキ
372 10/31 11   2010A5310 川崎カワサキ重工ジュウコウギョウ キヨタキ ゲン 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) モーターサイクル用排ガス浄化触媒の劣化機構の解明
371 10/31 11   2010A5311 川崎カワサキ重工ジュウコウギョウ 中山耕輔 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) XAFSを用いたNi-MH電池正極材料の評価
370 10/21 11 19986 2008B5050, 2009B5050 関西電力(株)カンデン 出口デグチ博史ヒロシ 2010ネン11ガツ4-5ニチ 第2回SPring-8合同コンファレンス (第10回サンビーム研究発表会) 二酸化炭素を吸収したアミン水溶液のX線散乱解析
369 10/21 1 20149 2010A 5351, 2008B 5351,
2006B 5350, C05A 4050,
2007B 1937
関西電力(株)カンデン 渡邊ワタナベツネテン 2011年3月 博士ハカセ論文ロンブン京都キョウト大学ダイガク γ-Gallia-Alumina Catalysts for Selective Catalytic Reduction of NO with Methane
368 10/17 11 17792 2010A5130,2010B5130 三菱電機 中村 彰宏(東工大) 2011/9/30 高分子討論会 Thermal Conductivity and Higher Order Structure of Liquid Crystalline Asymmetric Epoxy Thermosets.