受付日 発表
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SB
 No.
JASRI
 No.
実験課題番号 題目 筆頭者氏名
発表先 [日付] 会社名
2/12 11 521 22885 2012A5352 高温還元雰囲気下におけるセリアの結晶相と酸素空孔量のin situ測定 古川剛史
第38回固体イオニクス討論会 関西電力(株)
(京大)
2/12 11 520 22887 2012A5352 高温還元処理や通電処理によるセリア系酸化物の酸素空孔量と結晶相変化の評価 古川剛史
第21回SOFC研究発表会 関西電力(株)
(京大)
11/28 9 519 20304 2010B5311 系統連系円滑化用途におけるNi-MH電池の性能評価 中山耕輔
第52回電池討論会[2011/10/19] 川崎重工業
11/28 11 518 22077 2007B5010,2008A5010,
2008B5010,2009B5010,
2010A5010
X線回折手法を利用したガスタービン用ニッケル基超耐熱合金のクリープ損傷評価 井頭賢一郎
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.95 [2012/3] 川崎重工業
11/28 11 517 22078 2010A5311,2010B5311
2011A5311
Performance of Ni-MH Batteries with Pretreated Positive Electrodes 中山耕輔
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.99 [2012/3] 川崎重工業
11/28 9 516 22562 2011A5310 貴金属担持各種酸化物排ガス浄化触媒の劣化機構に関する検討 清瀧元
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] 川崎重工業
11/28 9 515 22564 2011A5010 炭素繊維の回折光を利用したFRPの応力評価 井頭賢一郎
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] 川崎重工業
11/28 1 514 22552  2006A5330, 2006B5330, 2007A5330, 2007B1922, 2008A1919, 2008B5330 タングステンめっき用溶融塩浴中のタングステンイオンのその場状態解析 飯原順次
サンビーム年報・成果集
1 (2010) 85-87 [2012/3]
住友電工
11/28 1 513 22553  C03B-4003, C04A4030,
 C04B
-4030, C05A4030,
 2005B0799, 2009A1916
光増幅器用Er添加SiO2ファイバの構造解析 斎藤吉広
サンビーム年報・成果集
1 (2010) 88-91 [2012/3]
住友電工
11/28 9 512 22554 2011A5330, 2011B5030 斜出射XAFS法による埋もれた界面の状態分析 飯原順次
X線分析討論会 [2011/10/28,29] 住友電工
11/28 9 511 22555  2010A5330, 2010A1707,
2009B2050, 2008B2008,
 2010B5330
環境製品、リサイクル技術開発のための放射光利用 飯原順次
佐賀LS研究発表会 [2011/7/11] 住友電工
11/28 9 510 22556  2008B2008, 2009A5330,
 2009B2050, 2009B1800,
 2010A5330, 2010A1707,
2010B5330
環境製品、リサイクル技術開発のための放射光利用 飯原順次
サンビーム研究発表会 [2011/9/8,9] 住友電工
11/28 9 509 22557  2008B2008,  2009A5330,
 2009B2050, 2009B1800,
 2010A5330, 2010A1707,
 2010B5330, 2012A5330
低環境負荷タングステンリサイクル技術開発 飯原順次
サンビーム研究発表会 [2012/09/06,07] 住友電工
11/28 9 508 22558  C03B-4003, C04A4030,
 C04B
-4030, C05A4030,
 2005B0799, 2009A1916
光ファイバ材料のXAFS法による構造解析 飯原順次
ガラス・セラミックス研究会 [2010/08/27] 住友電工
11/5 1 409 21009 2009A5130, 2009B5130 Densification of Chemical Vapor Deposition Silicon Dioxide Film Using Oxygen Radical Oxidation 河瀬 和雅
Journal of Applied Physics, 111, (2012) 034101 三菱電機
11/5 11 507 22334 2009A5130, 2009B5130 X線反射率測定によるOラジカル改質されたCVD-SiO[sbsc]2[/sbsc]膜の評価 河瀬 和雅
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011.09.08-09.09]  Kobe, Japan 三菱電機
11/5 3 506 22333 2009A5130, 2009B5130 X-ray Reflectivity Study of Chemical Vapor Deposition Silicon Dioxide Film Densified with Ozone Gas 河瀬 和雅
サンビーム年報・成果集
Vol.1. 2011, p.24 (2012).
三菱電機
11/5 11 368 17792 2010A5130,2010B5130 Thermal Conductivity and Higher Order Structure of Liquid Crystalline Asymmetric Epoxy Thermosets. 中村 彰宏
高分子討論会 [2011.09.28-09.30]
Okayama, Japan
三菱電機(東工大)
11/5 11 505 22335 2011B5131 Structural Analysis of the ZnO Thin Film by Using Grazing Incidence X-Ray Diffraction 本谷 宗
秋季 応用物理学会学術講演会 [2012.09.11-09.14] Matsuyama, Japan  三菱電機
11/5 11 504 22449 2011A5132 酸化亜鉛結晶薄膜のZn-K吸収端分光における偏光依存性評価 上原 康
第47回X線分析討論会 [2011.10.28-10.29]
Fukuoka,Japan
三菱電機
11/5 3 503 22466 2007B5430, 2008B5431, 2009B5430 XANESによる絶縁油と銅の反応解析 上原 康
サンビーム年報・成果集
Vol.1. 2011, p.21 (2012).
三菱電機
11/5 11 502 22467 2007B5430, 2008B5431, 2009B5430 XANES study on corrosion of copper in insulation oil 上原 康
第3回日英放射光産業利用ワークショップ
[2012.05.21-05.23] Kobe, Japan
三菱電機
11/5 11 501 22468 2011A5132 酸化亜鉛結晶薄膜のZn-K吸収端分光における偏光依存性評価 上原 康
第12回サンビーム研究発表会(第9回SPring-8産業利用報告会) [2012.09.06-09.07] Nagoya, Japan 三菱電機
11/5 11 500 22470 2011B5132 3d遷移金属の特性X線における結合状態・励起条件の影響評価 上原 康
第48回X線分析討論会 [2012.10.31-11.02]
Nagoya, Japan
三菱電機
11/5 11 499 9889 2005A0929, 2005B0992, 2005B5362 高エネルギーXPSによるクロメート膜の結合状態の評価 立部 哲也
日本分析化学会 第67回分析化学討論会 講演要旨集, , (2006) 148 (株)東芝
11/5 10 498 13433 2006B5360, 2006A1636 放射光を用いた次世代半導体ゲート絶縁膜の評価 吉木 昌彦
SAGA-LSナノテクセミナー 「ナノテクノロジーと放射光利用」 [2007.12.17] (株)東芝
11/5 11 497 11407 2006B1599, 2006A1641, 2005B0232, 2006B5360 Media Technologies of 40 GB Dual-Layer Rewritable Phase-Change Recording for HD DVD System 中居 司
European Phase Change and Ovonics Symposium 2007 (EPCOS2007) [2007.09.01-09.04] (株)東芝
11/5 11 496 11164 2006B5360 XAFS Study of Phase-Change Recording Material using Actual Media 中居 司
2007 Optical Data Storage Topical Meeting (ODS2007) [2007.05.20-05.23] (株)東芝
11/5 1 495 10447 C03B4012, C04A4060, 2004B0493 Characterization of Amorphous High-k Thin Films by EXAFS and GIXS 竹村 モモ子
AIP Conference Proceedings, 879, (2007) 1573-1576 (株)東芝
11/5 11 494 13938 2006A5060 High-sensitivity EXAFS Investigation of Arsenic Shallow Implant in Silicon 山崎 英之
19th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis (2007) [2007.09.16-09.21] (株)東芝
11/5 11 493 13937 2006A5060 アンジュレータ光源利用蛍光収量XAFS法によるSiAsの局所状態解析 山崎 英之
68 分析化学討論会 [2007.05.19.-05.20] (株)東芝
11/5 11 492 11731 2006B5060 High-sensitivity EXAFS Investigation of Arsenic Shallow Implant in Silicon 山崎 英之
9th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis (ICXOM 2007) [2007.09.16-09.21] (株)東芝
11/5 6 491 11571 2006B1599, 2006B5360 XAFS and HX-PES Analysis of Phase-Change Recording Material using Actual Media 中居 司
Proceedings of SPIE, 6670, (2007) 66202C (株)東芝
11/5 1 490 16417 2005B0232, 2006A1641, 2006B1599, 2007A1908, 2007A5360 Local Structure Analysis and Interface Layer Effect of Phase-Change Recording Material Using Actual Media 中居 司
Japanese Journal of Applied Physics, 47, (2008) 5770-5776 (株)東芝
11/5 11 489 13939 2006B5060 FEFFによる半導体材料のEXAFS解析 山崎 英之
11XAFS討論会 [2008.08.06-08.08] (株)東芝
11/5 10 488 22341 2008A5360, 2008B5360 先端LSI開発における放射光利用分析 吉木 昌彦
シンクロトロン光利用者研究会 [2009.07.23] (株)東芝
11/5 1 487 20247 2005B5060, 2006A5060, 2006B5060, 2007A5060 High-sensitivity X-ray Absorption Fine Structure Investigation of Arsenic Shallow Implant in Silicon 山崎 英之
Spectrochimica Acta Part B, 64, (2009) 808-811 (株)東芝
11/5 11 486 22343 2008B5360 サンビームのXAFS装置 吉木 昌彦
サンビーム研究発表会 [2010.11.04-11.05] (株)東芝
11/5 11 485 22393 2009B5360 XAFSによる工業材料中六価クロムの定量分析 沖 充浩
サンビーム研究発表会 [2010.11.04] (株)東芝
11/5 11 484 22399 2010B5360, 2010A5360 Chemical Specification of Arsenic in Glass by ICP-MS and XAFS 盛本 さやか
IUPAC International Congress on Analytical Sciences 2011 (ICAS 2011) [2011.05.22-05.26] (株)東芝
11/5 11 483 22390 2010B5361 XAFS を用いた工業材料中に含まれる環境規制物質の価数評価 沖 充浩
サンビーム研究発表会 [2011.09.08] (株)東芝
11/5 11 482 22428 2010B5060 半導体デバイスのCTR分析 高石 理一郎
サンビーム研究発表会 [2011.09.08-09.09] (株)東芝
11/5 11 481 21237 2011A5360, 2011B5360 Approach to REACH/SVHC Analysis:Chemical Specification of Arsenic in Industrial Samples by XAFS and ICP-MS 盛本 さやか
PITTCON 2012 [2012.03.11-03.15] (株)東芝
11/5 11 480 22344 2011B5360, 2012A5360 低温全反射XAFSによる絶縁薄膜の局所構造解析 吉木 昌彦
サンビーム研究発表会 [2012.09.06-09.07] (株)東芝
11/5 11 479 22392 2011B5360 Application of X-ray Absorption Fine Structure Method for the Quantitative Analysis of Hexavalent Chromium in Electronic Products 充浩
Electronics Goes Green [2012.09.09-09.12] (株)東芝
11/5 3 478 22427 2010B5060 半導体デバイスのCrystal Truncation Rod分析 高石 理一郎
サンビーム年報・成果集, 1, (2012) 65 (株)東芝
11/5 3 477 22438 2010B5360 XAFSによる工業材料中六価クロムの定量分析 沖 充浩
サンビーム年報・成果集, 1, (2012) 62 (株)東芝
11/5 12 476 22439 2011B5360 東芝、六価クロム含有量を高精度分析 沖 充浩
日経産業新聞 (Nikkei Business Daily), 94, (2012) (株)東芝
11/5 3 475 22355 2010B5090 Micro XAFS Measurements of Lithium-ion Secondary Battery Material 浅田 敏広
SUNBEAM Annual Report with Research Results
 1 (2011) 48
(株)日産アーク
11/5 3 474 22437 2012A5392 In situ XAFSと第一原理計算による
Liイオン電池充放電挙動の解析
茂木 昌都
第9回 SPring-8産業利用発表会 [2012/9/6〜7] (株)日産アーク
11/2 9 473 22351 2009B5370, 2010A5372, 2010A1709, 2010B7012, 2011A7012 セラミックス板の内部応力の計測 木村英彦
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] (株)豊田中央研究所
11/2 9 472 22331 2010B5070, 2011A5071, 2011B5070 重水素透過後におけるPd基板のXRF分析 高橋直子
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] 竃L田中央研究所
11/2 1 471 22332 2010B5070, 2011A5071, 2011B5070 重水素透過後におけるPd基板のXRF分析 高橋直子
サンビーム年報2011 竃L田中央研究所
11/2 1 470 22425 2008B5370 排ガス浄化触媒の in situ XAFS 解析 堂前 和彦
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.58 [2012/3] (株)豊田中央研究所
11/2 1 469 22,426 2009B5071, 2010A5071, 2010B5072 円偏光を用いたNd2Fe14B磁石の磁気特性評価 野崎 洋
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.60 [2012/3] (株)豊田中央研究所
11/2 11 468 22354 2010B5420 リチウムイオン電池用LiNiO2系正極材料のXAFS測定 神前 隆
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] パナソニック
11/2 1 467 22352 2010B5420 リチウムイオン電池用LiNiO2系正極材料のXAFS測定 神前 隆
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.45-p.47 [2012/3] パナソニック
11/2 1 466 22353 2010B5120 リチウムイオン電池正極における面内結晶性評価 神前 隆
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.41-p.44 [2012/3] パナソニック
11/2 1 465 22409 2010A5350,2010B5350            2011A5351,2011B5350 Development of Advanced Analytical Technology Using SPring-8 - Analysis of Trace Element and Quick XAFS Measurement  山本 融
電力中央研究所報告 研究報告 (Research Report of Central Research Institute of Electric Power Industry) M11012 号発行年2012 1-12  (一財)電力中央研究所
11/2 9 464 21940 2010A5350,2010B5350            2011A5351 Evaluation of exhaust gas purification technology by XAFS 栃原義久
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] (一財)電力中央研究所
11/2 1 463 22408 2006A5051,2006B5351               2007A5351,2007B5353 Identification of Trace Metal Element Using Fluorescence XAFS Measurement 山本 融
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.78 [2012/3] (一財)電力中央研究所
11/2 1 462 22412 2009A5050,2009A5350            2010A5350,2011B5351 Measurement of Gaseous Selenium in combustion flue gases 野田直希
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.76 [2012/3] (一財)電力中央研究所
11/2 1 461 22389 2006B5351,2007A5051        2007B5350,2008A5350 Reaction Analysis of Trace Metal Element in a Solution Using in situ XAFS Measurement 秋保広幸
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.72 [2012/3] (一財)電力中央研究所
11/2 1 460 22036 2006B5352,2007A5350               2007B5352,2008A5352 Defect investigation in 4H-SiC epitaxal layere by X-ray topography 鎌田功穂
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.74 [2012/3] (一財)電力中央研究所
11/2 8 459 21511 2005B5352,2006A5352              2006B5351,2007A5353 Application of Synchrotron Radiation X-ray to Research of Fuel Cell Material 山本 融
第46回技術討論会・テキスト「電池の製造と研究開発に貢献する粉体工学」(2011)75-83 (一財)電力中央研究所
11/2 1 458 21512 2005B5352,2006A5352              2006B5351,2007A5353 Application of Synchrotron Radiation X-ray to Research of Fuel Cell Material 山本 融
粉体工学会誌 (Journal of the Society of Powder Technology Japan) 48,(2011)403-411 (一財)電力中央研究所
11/2 1 457 22345 2010B5341, 2011A5342 酸化物半導体In2O3:Snの局所構造と電気伝導特性 細井 慎
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.82-84 [2012/3] ソニー(株)
11/2 9 456 22347 2010B5340, 2011A5340, 2011B5340
RuPtコアシェルナノ粒子のXAFS解析 細井 慎
第12回サンビーム研究発表会(第9回SPring-8産業利用報告会) [2012/9/6,7] ソニー(株)
11/2 1 455 22346 2009A5040,2009B5040 有機半導体薄膜のX線回折評価 越谷 直樹
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.80-81 [2012/3] ソニー(株)
11/2 9 454 22348 2010A5040 ペンタセン結晶薄膜のX線回折法による構造評価 越谷 直樹
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] ソニー(株)
11/2 9 453 22349 2011A5040、2011B5040 有機半導体薄膜のX線回折法による構造評価 越谷 直樹
第12回サンビーム研究発表会(第9回SPring-8産業利用報告会) [2012/9/6,7] ソニー(株)
11/2 9 452 22372 2007A5340 リチウムイオン二次電池Sn系負極活物質のXAFS解析 工藤 喜弘
第8回サンビーム研究発表会(第5回SPring-8産業利用報告会) [2008/9/18, 19] ソニー(株)
11/2 9 451 22373 2008A5340 リチウムイオン二次電池Co/Sn薄膜負極のXAFS解析 工藤 喜弘
第9回サンビーム研究発表会(第6回SPring-8産業利用報告会) [2009/9/3, 4] ソニー(株)
11/2 9 450 22374 2009A5040 ペンタセン薄膜のX線回折法による構造解析 越谷 直樹
第10回サンビーム研究発表会(第7回SPring-8産業利用報告会) [2010/11/4, 5] ソニー(株)
11/2 9 449 22,361 2009B5400, 2010B,5400, 2010B5100, 2011B5100 XASによるリチウム電池正極材の価数分布評価 平野 辰己
第9回SPring-8産業利用報告会[2012/09/06-09/07] (株)日立製作所
日立研究所
11/2 9 448 22,297 2011A5100, 2011B5100 Environmental Hardness of Pt-Ti-O gate Si-MISFETs Hydrogen Gas Sensors from Siloxane, Humidity and Radiation  宇佐川 利幸
IMCS2012 The 14th International Meeting on Chemical Sensors [2012/05/20] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 1 447 22,298 2011A5100, 2011B5100 Environmental Hardness of Pt-Ti-O gate Si-MISFET Hydrogen Gas Sensors from Siloxane, Humidity, and Radiation 宇佐川 利幸
IMCS2012 The 14th International Meeting on Chemical Sensors [2012/05/20] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 8 446 22,299 2008A5100, 2009B5100, 2010A5100, 2011B5100 硬X線磁気顕微鏡によるネオジム磁石の元素識別・顕微観察  上田 和浩
SPring-8利用推進協議会 先端磁性材料研究会研究会(第5回)[2012/01/20] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 9 445 22,301 2010B5100 X線反射率法による微小領域計測と異常分散利用X線反射率解析の可能性 上田 和浩
「薄膜・多層膜の埋もれた界面の解析・ 高度な量子ビーム源による新しい研究の方向性」研究会[2012/06/28] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 8 444 22,302 2010B5100 Application of X-ray Reflectivity: Analysis of Magnetic Film Stack Structure  上田 和浩
61th Annual Conference on Applications of X-ray Analysis: Denver X-ray Conference[2012/08/06] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 9 443 22,306 2010B5100 サブミクロン集光X線を利用したX線反射率計の開発  上田 和浩
第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム[2012/01/07] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 9 442 22,305 2010A5100, 2010B5100, 2011A5100, 2011B5100 マイクロビーム走査型X線顕微鏡による肝細胞の観察 米山 明男
第9回SPring-8産業利用報告会[2012/09/06-09/07] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 9 441 22,307 2008A5100, 2009B5100, 2010A5100 Development of Hard X-ray Magnetic Circular Dichroism Microscope and its Application to the NdFeB Magnet 南部 英
The 6th International Symposium on Surface Science (2011)[2011/12/15] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 1 440 22,365 2008B5100, 2009A5100, 2009B5100, 2010A5100, 2010B5100, 2011A5100, マイクロビーム走査型高速蛍光X線顕微鏡の開発 米山 明男
サンビーム年報・成果集vol.1, 2011, p38[2012/03] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 9 439 22,363 2008B5100, 2009A5100, 2009B5100, 2010A5100, 2010B5100, 2011A5100, マイクロビーム走査型高速蛍光X線顕微鏡の開発 米山 明男
第8回SPring-8産業利用報告会[2011/09/08-09/09] (株)日立製作所
中央研究所
11/2 9 438 22,366 2010A5100, 2010B5100, 2011A5100, 2011B5100 放射線・熱劣化を受けたポリマ中の酸化防止剤の挙動解析 山崎 孝則
第8回SPring-8産業利用報告会[2011/09/08-09/09] 日立電線(株)
11/2 9 437 22396 2010A5020, 2011A5020 In-situ XRDによる鋼板の高温酸化挙動の観察 北原 周
サンビーム年報・成果集 (SUNBEAM Annual Report with Research Results)
134-135, Vol.1 (2011)
潟Rベルコ科研
11/2 9 436 22400 2010A5020 X線回折によるSi添加鋼の高温酸化挙動の観察 北原 周
サンビーム年報・成果集 (SUNBEAM Annual Report with Research Results)
92-94, Vol.1 (2011)
潟Rベルコ科研
11/2 11 435 22398 2009B5320, 2009B5020
2010A5020, 2011A5020
放射光を用いたスケール生成挙動のin-situ XRD分析技術の開発 早川 敬済
日本金属学会 秋期大会
[2011.11.07-11.09]
潟Rベルコ科研
11/2 11 434 22401 2011A5020,2011B5020 鋼の初期酸化挙動に対する酸素濃度の影響 中久保 昌平
日本金属学会 秋期大会
[2012.09.17-09.19]
叶_戸製鋼所
11/2 9 433 22397 2009A1482, 2012A5020 小角散乱法による金属ナノ粒子の評価 北原 周
第12回サンビーム研究発表会(第9回産業利用報告会)
[2012.09.06-09.07]
潟Rベルコ科研
11/2 11 432 20264 2007A5310 高エネルギーX線回折による鋼板の評価 北原 周
X線分析討論会
[2008.10.18-10.19 ] 
潟Rベルコ科研
11/2 11 431 20265 2008A5320 In-situ XRDによる引張試験中の鋼板の構造解析 北原 周
日本金属学会 春期大会
[2009.03.28-03.30 ]
潟Rベルコ科研
10/30 1 430 20466 2008B5050,2009B5050, 2010B5050 Hydration structure around CO2 captured in aqueous amine solutions observed by high energy X-ray scattering 出口博史
International Journal of Greenhouse Gas Control 5 (2011) 1533–1539. 関西電力(株)
10/30 7 429 21175 2010A5351 メタンを利用する脱硝触媒の高性能化 渡邊恒典
R&D News Kansai, Vol.:467 (2012)16-17. 関西電力(株)
10/30 1 428 21930 2010B5050 X線散乱による水酸化カリウム水溶液中の炭酸イオンの構造解析 出口博史
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p. 67 [2012/3] 関西電力(株)
10/30 1 427 21931 2008B5050, 2009B1299, 2009B5050, 2010B5050 銅・亜鉛系触媒に添加した微量Gaの化学状態解析 出口博史
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p. 69 [2012/3] 関西電力(株)
10/30 7 426 21932 2008B5050, 2009B1299, 2009B5050, 2010B5050 大型放射光施設”SPring-8”を用いたCO2化学吸収液の構造解析 出口博史
R&D News Kansai, Vol.:469 (2012)14-15. 関西電力(株)
10/30 12 425   2008B5050,2009B5050, 2010B5050 CO2化学吸収液の構造解析 出口博史
電気新聞 H24年6月28日 関西電力(株)
10/30 9 424 19985 2010A5351 還元ガス処理を行ったガリウム−アルミニウム複合酸化物触媒における活性点のXAFS解析 渡邊恒典
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会)[2011/9/8,9] 関西電力(株)
10/30 9 423 22338 2011B5050, 2010B1255 二酸化炭素吸収液用アルカノールアミン分子の配座解析 出口博史
第12回サンビーム研究発表会(第9回SPring-8産業利用報告会)[2012/9/6,7] 関西電力(株)
10/29 1 422 22277 2010A5081
2010B5080
2011A5080
放射光マイクロビームX線を用いた蛍光体フリー白色LEDの評価 榊 篤史
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.52 [2012/3] 日亜化学工業(株)
10/29 1 421 22276 2009A5380
2009B5381
2010A5380
2010B5380
in-situ XAFS/XRD測定によるLi二次電池正極材料の構造解析 吉田 泰弘
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.55 [2012/3] 日亜化学工業(株)
10/29 9 420 22279 2011A5380 XAFSによるLiイオン二次電池正極材料の局所構造解析 吉田 泰弘
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] 日亜化学工業(株)
10/29 9 419 22359 2011A5110,2011B5110
2012A5110,2012A1735
微小角入射X線回折による有機薄膜太陽電池の構造評価 土井修一
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2012/9/6,7] (株)富士通研究所
10/29 9 418 22360 2011B5110 富士通研究所におけるSPring-8放射光の利用 淡路直樹
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2012/9/6,7] (株)富士通研究所
10/10 1 417 22264 2008A1513,2009A1840
2009B1844,2009B5110
2010A1744
Development of X-ray Fourier transform holography technique for investigation of nanoscale materials 淡路直樹
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.28 [2012/3] (株)富士通研究所
10/10 9 416 22266 2010A5110,2010A1744
2011A5110
フーリエ変換ホログラフィー法によるin-situナノイメージング 淡路直樹
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] (株)富士通研究所
10/10 1 415 22261 2009A5410,2010B5410
2011A5410
新規光触媒TiアパタイトのXAFSによる局所構造評価 野村健二
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.35 [2012/3] (株)富士通研究所
10/10 9 414 22265 2009A5410,2010B5410
2011A5410
新規光触媒TiアパタイトのXAFSによる局所構造評価 野村健二
第11回サンビーム研究発表会(第8回SPring-8産業利用報告会) [2011/9/8,9] (株)富士通研究所
10/10 1 413 22263 2008A5110, 2008B5110
2009
A5110, 2008A1812
2008B1923
X線反射率によるMnIr/CoFe交換結合膜の構造解析 土井修一
サンビーム年報・成果集 vol.1,2011,p.32 [2012/3] (株)富士通研究所
10/10 9 412     Management of SUNBEAM consortium and the Recent Activity on the Research 淡路直樹
第3回日英放射光産業利用ワークショップ [2012/5/22] (株)富士通研究所
10/10 9 411     サンビーム共同体BL16XU,BL16B2の利用状況 淡路直樹
SPring-8シンポジウム2012 [2012/8/26] (株)富士通研究所