| 受付日 | JASRI No. | 課題番号 | 会社名 | 担当者氏名
| 発表先 | 題目 |
1 | 2001/7/18 | 488 | C01A16B2-4006-N | 電力中研
| 山本 融 | 日経産業新聞 2001/7/18 | 次世代燃料電池の電極材料 原子レベルでの観察 |
2 | 2001/8/8 | | C01A16XU-3000-N | 富士電機総研
| 大沢 通夫 | 日経産業新聞 2001/8/6 | X線解析でHD大容量化 |
3 | 2002/2/26 | 1875 | 2001A0342-NS-np | 富士通研
| 淡路 直樹 | 日経産業新聞 2001/9/11 | 原子4個でも検出 |
4 | 2002/2/26 | 1876 | 2001A0342-NS-np | 富士通研
| 淡路 直樹 | 電波新聞 2001/9/12 | 半導体ウエハの微量元素を世界最高感度で検出 |
5 | 2002/2/26 | 1877 | 2001A0342-NS-np | 富士通研
| 淡路 直樹 | 日本工業新聞 2001/9/12 | 微量元素の検出感度100倍 |
6 | 2002/2/26 | 1878 | 2001A0342-NS-np | 富士通研
| 淡路 直樹 | 化学工業日報 2001/9/12 | 検出感度100倍に向上 |
7 | 2002/2/26 | 1879 | 2001A0342-NS-np | 富士通研
| 淡路 直樹 | 科学新聞 2001/9/28 | 半導体ウエハの微量元素 4社共同 世界最高感度で検出に成功 |
8 | 2003/2/20 | 5138 | C02A16XU-3009-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 日刊工業新聞 2002/09/10 | MOS素子のゲート酸化膜 最高分解能で構造評価 |
9 | 2003/2/20 | 5139 | C02A16XU-3009-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 電波新聞 2002/09/16 | 1nm以下のゲート酸化膜 SPring-8放射光を使い評価 |
10 | 2003/2/20 | 5310 | C02A16XU-3009-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 化学工業日報 2002/09/17 | ゲート酸化膜 1nm以下まで評価 |
11 | 2003/9/3 | 5138 | C03A16XU-3004-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 日刊工業新聞 2003/8/27 | 界面原子1層の歪み計測 −SPring-8の高輝度X線活用、精度0.0005nm |
12 | 2003/9/3 | 5139 | C03A16XU-3004-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 電波新聞 2003/9/2 | シリコンゲート界面の表面原子の歪みを精度0.005Åで測定可能な新技術を開発 |
13 | 2003/10/9 | 5147 | C03A16XU-3009-N | 富士電機
| 田沼 良平 | 日刊工業新聞 2003/8/29 | 結晶歪み検出感度10倍/富士電機 回折X線拡大/パワー半導体に応用 |
14 | 2003/10/9 | 5310 | C03A16XU-3004-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 化学工業日報 2003/9/16 | シリコン原子位置変位、微細測定技術を開発 −富士通 半導体工程最適化へ |
15 | 2005/4/13 | 10067 | なし | 住友電工
| 飯原 順次 | Sumitomo Quarterly | SPring-8: The Dream
Light that illuminates the World of the Nano-Realm |
16 | 2005/9/26 | 8318 | C05A16B2-4100-N | 富士通研究所
| 淡路 直樹 | 日経産業新聞 2005/9/26 | 富士通研 X線利用の新技術 六価クロム含有量 100PPM単位で検出可能 |
21 | 2006/11/10 | 10137 | C04A16XU-3100-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 日刊工業新聞 2004/9/27 | SPring-8放射光によりナノ粒子材料の粒径分析に成功 |
22 | 2006/11/10 | 10138 | C04A16XU-3101-N | 富士通研
| 淡路 直樹 | 電波新聞 2004/10/2 | SPring-8放射光によりナノ粒子材料の粒径分析に成功 |
23 | 2006/11/22 | | なし | 神戸製鋼 | 中山 武典
| 日本経済新聞 2003/4/10 | SPring-8利用企業相次ぎ成果 神鋼はさびの放射光観察を応用してさび進行抑制鋼板を開発 |
24 | 2007/6/8 | | | 日立製作所 | 上田 和浩
| 日経産業新聞 2007/6/8 | 浸水環境下で使用される電力ケーブルに発生する絶縁不良部分の元素分布を可視化することに成功 |