日時： ２００１/８/３(金)
場所： SPring-8 放射光普及棟
主催： 産業用専用ビームライン建設利用共同体
協賛： (財)高輝度光科学研究センター
| ＜研究発表： 素材・エネルギー・環境分野への応用＞ | 座長： 上原 康(三菱電機) | |
| 1. 2次電池および触媒材料のXAFS解析 | (株)豊田中央研究所 分析・計測部 | 広瀬美治 |
| 2. 高強度ピアノ線中のセメンタイトの伸線/熱処理による結晶性の変化 | 住友電気工業(株)特性評価センター | 山口浩司 |
| 3. 固体電解質型燃料電池電解質材料の局所構造解析 | 関西電力(株) 総合技術研究所 | 出口博史 |
| 4. 神戸製鋼所におけるサンビームを利用した材料評価技術の開発 | (株)神戸製鋼所((株)コベルコ科研) | 渡辺 孝 |
| 5. 燃料電池材料のin-situ高温XAS解析 | (財)電力中央研究所 横須賀研究所 | 山本 融 |
| ＜研究発表： エレクトロニクス分野への応用(その1)＞ | 座長： 上原 康(三菱電機) | |
| 6. 半導体開発における局所分析の応用 | 三洋電機(株) ﾏｲｸﾛｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ研究所 | 西野潤一 |
| 7. 半導体表面・薄膜の微量分析、状態分析 | (株)東芝 研究開発センター | 竹村モモ子 |
| ＜研究発表： エレクトロニクス分野への応用(その2)＞ | 座長： 広瀬美治(豊田中研) | |
| 8. 斜入射蛍光X線装置を用いた多層薄膜、ウエハ表面分析 | (株)富士通研究所 | 淡路直樹 |
| 9. InGaN混晶のXAFSによる局所構造解析 | ソニー(株) テクニカルサポートセンター | 工藤喜弘 |
| 10. HD用磁気記録媒体のX線面内回折 | (株)富士電機総合研究所 材料技術研究所 | 大沢通夫 |
| 11. 表示デバイス用非結晶ITO薄膜の構造評価 | 三菱電機(株) 先端技術総合研究所 | 上原 康 |
| 12. 強誘電体薄膜：SBT/PT/-/SiのXAFS解析 | (株)松下テクノリサーチ | 尾崎伸司 |
| 13. 分極反転を繰り返したPｂ（Zr,Ti)O3薄膜ドメイン構造のX線回折による評価 | 日本電気(株) 基礎研究所 | 木村 滋 |
| 14. エレクトロニクス材料，バイオ試料計測のサブミクロン領域への展開 | (株)日立製作所 基礎研究所 | 平井康晴 |
注記： サンビームはBL16XUとBL16B2を指します。 |