第2回サンビーム研究発表会講演内容
日時 ： 2002年9月12日（木） 10:00 〜 17:00
場所 ： SPring−8放射光普及棟 大講堂
主催 ： 産業用専用ビームライン建設利用共同体
協賛 ： （財）高輝度光科学研究センター
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総合司会： 広瀬 美治（豊田中研）
開会の辞 産業用専用BL共同体 運営委員長 高橋 秀郎 （（株）豊田中央研究所 取締役）
ご挨拶 （財）高輝度光科学研究センター 放射光研究所 吉良 爽 所長
海外交流報告 （財）高輝度光科学研究センター 永田 正之 理事 ／ (株)豊田中央研究所 広瀬 美治
＜研究発表： エレクトロニクス分野への応用（その１）＞
1. Cu配線のＸ線マイクロビームによる評価 （株）日立製作所 基礎研究所 長谷川正樹
2. SR-Ｘ線回折を用いたFILEO GaN単膜基板の結晶性評価 日本電気（株） 基礎研究所 小林憲司
3. 放射光蛍光X線分析の電子材料への応用−超微量分析から状態分析まで− （株）松下テクノリサーチ 尾崎伸司
4. SR光による光学薄膜の膜質評価 三菱電機（株） 先端技術総合研究所 上原 康
5.異常透過像拡大による高空間分解能Ｘ線トポグラフィー (株)富士電機総合研究所 材料技術研究所 田沼良平
− 昼休み （12：20 〜 13：20）−
＜研究発表： エレクトロニクス分野への応用（その２）＞
6. シリコン絶縁膜のＸ線反射率解析 ソニー（株） ﾃｸﾆｶﾙｿﾘｭｰｼｮﾝｾﾝﾀｰ 劉 光佑
7. 高誘電体薄膜の蛍光Ｘ線分析 （株）東芝 研究開発センター 竹村ﾓﾓ子
8. 光ファイバ中のドーパント元素の局所構造解析 住友電気工業（株） 解析技術研究センター 飯原順次
9.アンジュレータＸ線反射率測定技術開発とゲート酸化膜評価 （株）富士通研究所 淡路直樹
− 休憩 −
＜研究発表： 素材・エネルギー・環境分野への応用＞
10. 電中研における放射光を活用した材料評価技術の開発 （財）電力中央研究所 横須賀研究所 山本 融
11.XAFSによるリチウム二次電池用Sn系負極の構造解析 三洋電機（株） ﾏﾃﾘｱﾙﾃﾞﾊﾞｲｽ研究所 三上 朗
12.高温高圧水中で生成した600合金の皮膜と溶存水素濃度の関係 関西電力（株）(原子力安全ｼｽﾃﾑ研究所） 寺地 巧
13.高温真空加熱炉を用いたin-situ XAFSによる鋼中微量元素の状態分析 （株）神戸製鋼所 ((株)コベルコ科研） 渡部 孝
14.μビームを用いたXAFS, XRD応用例 −Li二次電池・快削金型鋼− （株）豊田中央研究所 分析・計測部 妹尾与志木
閉会の辞 産業用専用BL共同体 副運営委員長 山田 忠利 （三菱電機（株） 先端技術総合研究所 所長）
注記： サンビームは，大型放射光施設「SPring-8」のビームライン”BL16XU” と “BL16B2” を指します。
産業用専用ビームライン建設利用共同体は，上記13社・1法人で構成されています。
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