第10回サンビーム研究発表会

(第7回SPring-8産業利用報告会)

報告書

期間:2010年11月4日(木)〜5日(金)

場所:東京ステーションコンファレンス

JASRI ご挨拶
サンビーム挨拶

口頭及びポスター発表
S-01XAFSを用いたNi-MH電池正極材料の評価川崎重工業(株)中山 耕輔
S-04放射光X線回折実験によるBi系超伝導線材の評価住友電気工業(株)上村 重明
S-06二酸化炭素を吸収したアミン水溶液のX線散乱解析関西電力(株)出口 博史
S-10放射光マイクロX線による蛍光体フリー白色LEDの評価日亜化学工業(株)榊 篤史
S-14SPring-8における磁気顕微鏡の開発(株)日立製作所上田 和浩
S-16XANESによる銅と絶縁油の反応解析三菱電機(株)上原 康

ポスター発表
S-02モーターサイクル用排ガス浄化触媒の劣化機構の解明川崎重工業(株)清瀧 元
S-03鉄鋼材料を対象としたSR利用その場測定の取り組み(株)神戸製鋼所稲葉 雅之
S-05ペンタセン薄膜のX線回折法による構造解析ソニー(株)越谷 直樹
S-07排ガス中ガス状セレン測定法の規格化に関する検討(財)電力中央研究所野田 直希
S-08XAFSによる工業材料中六価クロムの定量分析(株)東芝沖 充浩
S-09高エネルギーX線を用いた残留応力解析(株)豊田中央研究所山口 聡
S-11in-situ XAFS/XRD測定によるLi二次電池正極材料の構造解析日亜化学工業(株)吉田 泰弘
S-12高容量Li-ion電池用正極のIn-situ技術を適用した局所構造解析日産自動車(株)伊藤 淳史
S-13Si基板上汚染金属の化学状態分析パナソニック(株)尾崎 伸司
S-15領域拡大フーリエ変換ホログラフィーイメージング法の開発(株)富士通研究所淡路 直樹
S-17ラジカル改質されたCVD-SiO2膜のX線反射率による密度評価三菱電機(株)河瀬 和雅
S-18サンビームのX線回折装置(株)神戸製鋼所北原 周
S-19サンビームのXAFS装置(株)東芝吉木 昌彦
S-20サンビームのイメージング(株)日立製作所米山 明男

あとがき

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